該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.
電子束蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱
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電子束蒸發(fā)鍍膜儀
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產(chǎn)品型號
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CY-EBH500-SS
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樣品臺
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外形尺寸
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<150mm，樣品臺可旋轉(zhuǎn)
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可調(diào)溫度
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≦500℃
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電子槍
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新型電子槍，6孔坩堝
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加熱燈
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4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明
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真空腔體
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腔體尺寸
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Φ500*H500mm
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觀察窗口
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直徑φ100mm
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腔體材質(zhì)
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304不銹鋼
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開啟方式
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前開門式
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膜厚測量
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采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)控，涂層厚度不均勻度小于6%。
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真空系統(tǒng)
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前級泵
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雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S
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次級泵
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渦輪分子泵,氣體抽速600L/S
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真空測量
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復(fù)合真空計(電離規(guī)+電阻規(guī))
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系統(tǒng)真空
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5×10-5Pa
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水冷系統(tǒng)
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水壓<2.5bar 水壓監(jiān)測
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加熱燈
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4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明
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電極接口
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帶2路金屬蒸發(fā)電極接口
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控制系統(tǒng)
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CYKY自研專業(yè)級控制器
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其他參數(shù)
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供電電源
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AC380V,50Hz
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整機(jī)尺寸
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1000mm×800mm×1500mm
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整機(jī)功率
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20KW
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整機(jī)重量
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350kg
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