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磁控濺射鍍膜儀
  • 離子源雙靶磁控濺射鍍膜... 離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀,設(shè)備配有兩臺直流電源,兩臺射頻電源,可用于制備單層...
  • 桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛...
  • 粉末磁控濺射鍍膜儀 粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備,利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
  • 桌面型磁控濺射鍍膜儀下... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),...
  • 桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),...
  • 高真空三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛...
  • 分體式高真空三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛...
  • 分體式高真空雙靶磁控濺... 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛...
  • 桌面型單靶直流磁控濺射... 單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備...
  • 高真空4英寸三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等
  • 下置四靶磁控濺射鍍膜儀 四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜
  • 臥式高真空三靶磁控濺射... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等
  • 小型臺式單靶磁控濺射鍍... 桌面型石英腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SE...
  • 桌面型不銹鋼腔體單靶磁... 單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
  • 粉體磁控濺射包覆機(jī) 粉體磁控濺射包覆機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn),以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜,能快速出料。
  • 真空腔體 該真空腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀   三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物...
  • 單靶直流磁控濺射鍍膜儀 該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、...
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